磁控溅射制备减摩IF－WS2/IF...
专利权的终止
摘要
一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减摩IF－WS2/IF－MoS2复合薄膜的方法。本发明采用IF－WS2靶材与IF－MoS2共溅射，通过调节二者的功率，溅射气压、偏压制备出减摩IF－WS2/IF－MoS2复合薄膜，具体工艺参数为：气压为0.1~1Pa，电源功率为100～300W，基体的偏压为－100V。由于复合薄膜中IF－WS2和IF－MoS2两种固体润滑剂，由于结构相同，晶格常数接近而发生特殊的物理化学作用，使得该减摩复合薄膜在大气和真空环境都具有低的摩擦系数，具有较高的耐潮湿、抗氧化性能和很高的耐磨性能，同时由于溅射有金属Ni中间层，使得薄膜基底有较高的结合力，可用于制造在真空和潮湿空气中交叉使用的轴承、陀螺仪和齿轮等零部件表面的减摩防护薄膜。
基本信息
专利标题 ：
磁控溅射制备减摩IF－WS2/IF－MoS2复合薄膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1757788A
申请号 ：
CN200510030259.1
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
何丹农尹桂林涂江平夏正志余震
申请人 ：
上海交通大学
申请人地址 ：
200240上海市闵行区东川路800号
代理机构 ：
上海交达专利事务所
代理人 ：
王锡麟
优先权 ：
CN200510030259.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2011-12-07 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101147910384
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL2005100302591
申请日 : 20050930
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20100930
号牌文件序号 : 101147910384
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL2005100302591
申请日 : 20050930
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20100930
2008-05-14 ：
授权
2006-06-07 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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