一种用于真空系统防止晶片颗粒缺陷的方法及其装置

专利权的终止

摘要

一种用于真空系统防止晶片颗粒缺陷的方法，包括：采集颗粒，颗粒计数分析，颗粒计数分析结果信息送到气压阀控制器，气压阀控制器选择驱动第一或第二开关阀门，在两个开关阀门之间切换；用于该方法的装置，包括：开关阀组件，其具有第一开关阀门和第二开关阀门，颗粒分析仪，气压阀控制器；由开关阀门产生的颗粒处于实时监测之中，一个阀门工作，而另一个阀门备用，通过颗粒信息的传递和控制，使两个阀门之间进行自动或手动切换，保证机台的连续运转和晶片的合格率。

基本信息

专利标题：

一种用于真空系统防止晶片颗粒缺陷的方法及其装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1959928A

申请号：

CN200510030912.4

公开（公告）日：

2007-05-09

申请日：

2005-10-31

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

姚政源华宇施敏王铁渠

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

上海新高专利商标代理有限公司

代理人：

楼仙英

优先权：

CN200510030912.4

主分类号：

H01L21/00

IPC分类号：

H01L21/00 H01L21/67 F16K51/02

相关图片

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

法律状态

2019-10-22 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/00
申请日 : 20051031
授权公告日 : 20081001
终止日期 : 20181031

2012-01-04 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
登记生效日 : 20111123
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101256712491
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005100309124
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号

2008-10-01 ：

授权

2007-07-04 ：

实质审查的生效

2007-05-09 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

1、

CN100423186C.PDF

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2、

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