铝材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法

专利权的终止

摘要

一种铝材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法，所述的制备方法包括有紫外光刻掩模版的制备、X射线光刻掩模的制备、X射线光刻基体的准备和最后铝材料一维X射线折衍射微结构器件的形成。本发明优化了一维X射线折衍射微结构器件的透镜单元的空气隙的面形形状，采用椭圆面形，像差几乎为零，焦斑质量好；提供了一种针对铝材料的一维X射线折衍射微结构器件的制作工艺技术，器件深度尺寸较以前提高了几十倍，因此大大提高了器件在深度方向上的集光口径，从而提高了X射线辐射透过率。

基本信息

专利标题：

铝材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1786742A

申请号：

CN200510061881.9

公开（公告）日：

2006-06-14

申请日：

2005-12-07

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

乐孜纯董文梁静秋

申请人：

乐孜纯

申请人地址：

310014浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学信息工程学院

代理机构：

杭州天正专利事务所有限公司

代理人：

黄美娟

优先权：

CN200510061881.9

主分类号：

G02B3/00

IPC分类号：

G02B3/00 G03F7/20 G03F1/00 G01N23/083 A61N5/10