高频加热装置、半导体制造装置以及光源装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明能够实现小型化和寿命延长，同时产生微波。设置：产生微波频带高频的振荡器(1)；放大器(2)，其对振荡器(1)所产生的高频进行放大；以及隔离器(3)，其阻止来自照射了微波的对象物的反射波，振荡器(1)所产生的微波通过放大器(2)放大，通过隔离器(3)发送给天线(5)，发送给天线(5)的微波向金属腔(4)内放射，通过使设置在金属腔(4)内的物质的水分子振动，加热物质。
基本信息
专利标题 ：
高频加热装置、半导体制造装置以及光源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1764332A
申请号 ：
CN200510105880.X
公开（公告）日 ：
2006-04-26
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高田丰藤井知
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄纶伟
优先权 ：
CN200510105880.X
主分类号 ：
H05B6/64
IPC分类号 ：
H05B6/64 H05H1/46 H01L21/00
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-06-14 ：
实质审查的生效
2006-04-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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