一种有机场效应晶体管及其制备方法
专利权的终止
摘要

本发明公开了一种有机场效应晶体管及其制备方法。本发明所提供的有机场效应晶体管,包括一作为栅极的基板,一位于基板上的绝缘层,一位于绝缘层上的源电极和漏电极,其中,在源电极和漏电极电极间设有一有机半导体单晶微/纳米材料,其两端通过二相互间隔的金属膜与源电极和漏电极连接,二金属膜间距为5-20微米。本发明的有机场效应晶体管具有迁移率高而阈值电压低的优良特性,所采用的制备方法具有如下优点:1)整个过程中没有使用有机溶剂,避免了对纳米材料表面的破坏;2)所需设备相对简单,避免了高能粒子对纳米线的辐照和破坏;3)能够制备出规格可控的器件;4)能够控制场效应晶体管的结构并形成良好的电极接触。

基本信息
专利标题 :
一种有机场效应晶体管及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1953231A
申请号 :
CN200510109071.6
公开(公告)日 :
2007-04-25
申请日 :
2005-10-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
胡文平李洪祥汤庆鑫
申请人 :
中国科学院化学研究所
申请人地址 :
100080北京市海淀区中关村北一街2号
代理机构 :
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 :
关畅
优先权 :
CN200510109071.6
主分类号 :
H01L51/05
IPC分类号 :
H01L51/05  H01L51/10  H01L51/40  
法律状态
2013-12-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101548544208
IPC(主分类) : H01L 51/05
专利号 : ZL2005101090716
申请日 : 20051017
授权公告日 : 20090708
终止日期 : 20121017
2009-07-08 :
授权
2007-06-13 :
实质审查的生效
2007-04-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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