图案化有机晶体阵列的制备方法及有机场效应晶体管
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摘要

本发明提供了一种图案化有机晶体阵列的制备方法及有机场效应晶体管,该制备方法包括以下步骤:提供一氧化硅片作为基底,在基底上设置绝缘层,并在绝缘层上旋涂光刻胶,以通过光刻技术在基底上得到图案化阵列位点;配置液晶小分子溶液以作为墨水,将墨水打印至图案化阵列位点上,以得到具有液晶小分子的图案化基底;对图案化基底进行热处理,以使图案化阵列位点上的液晶小分子融化和铺展,且在液晶小分子融化后进行降温处理,以使融化后的液晶小分子重结晶,得到图案化有机晶体阵列。本发明的制备方法,利用喷墨打印技术并结合液晶小分子重熔再结晶的特性得到图案化有机晶体阵列,有效防止有机晶体阵列在图案化过程中产生咖啡环效应。

基本信息
专利标题 :
图案化有机晶体阵列的制备方法及有机场效应晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111554812A
申请号 :
CN202010408931.0
公开(公告)日 :
2020-08-18
申请日 :
2020-05-14
授权号 :
CN111554812B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
张秀娟揭建胜邓巍方晓辰
申请人 :
苏州大学
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区仁爱路199号苏州大学独墅湖校区909楼3303
代理机构 :
北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周礼涛
优先权 :
CN202010408931.0
主分类号 :
H01L51/05
IPC分类号 :
H01L51/05  H01L51/30  H01L51/40  
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法律状态
2022-04-22 :
授权
2020-09-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/05
申请日 : 20200514
2020-08-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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