本发明提供一种金属内连线结构及其制造方法。两方法可达成其较佳的圆形化轮廓。对于两种方法，是形成一沟槽且导电材料是填入沟槽中。应用蚀刻阻挡层的方法包括形成一蚀刻阻挡层于一层间介电层下。在蚀刻层间介电层的一沟槽之后，是蚀刻阻挡层，以圆形化沟槽边角。化学方法包括在蚀刻沟槽时，改变蚀刻化学物。上述的两种方法可分别使用，或是合并使用。一贯孔结构包括两铜导线且是形成一内连线贯孔。通过使用蚀刻阻挡层方法或是改变蚀刻化学物的方法，可以形成大体上圆形化的边角。本发明是应用在相近足以导致介电膜时间相依介电崩溃的导电特征。本发明当具有较高曲率半径的边角，电场较不集中，且可减少其对于周围介电层的应力。