一种晶片刻蚀设备的取片传输方法

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明涉及晶片刻蚀领域。本发明提供了一种晶片刻蚀设备的取片传输方法，传输平台扫描晶片盒中待刻蚀晶片的数量及其参数信息，该参数信息包括晶片位置、晶片类型、晶片处理时间；传输平台根据得到的晶片数量和参数信息设置待刻蚀晶片的优先级；由机械手根据晶片的优先级进行取片传输，不同晶片类型的晶片传输至不同反应腔室，通过设置优先级的方式，最大限度的提高了反应腔室的并行性，提高了晶片刻蚀效率。

基本信息

专利标题：

一种晶片刻蚀设备的取片传输方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1848014A

申请号：

CN200510126440.2

公开（公告）日：

2006-10-18

申请日：

2005-12-09

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

崔琳

申请人：

北京圆合电子技术有限责任公司

申请人地址：

100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

向华

优先权：

CN200510126440.2

主分类号：

G05B19/425

IPC分类号：

G05B19/425 H01L21/00

IPC结构图谱

G部——物理

G05

控制；调节

G05B

一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置

G05B19/00

程序控制系统

G05B19/02

电的

G05B19/42

记录和重放系统，即在此系统中记录了来自操作循环的程序，例如人为控制循环操作，然后在同一机器上重放这个记录

G05B19/425

通过数字控制来教导顺序位置，即输入命令以控制定位伺服的工具头部或端部操纵装置

法律状态

2018-08-17 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : G05B 19/425
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更后 : 北京北方华创微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后 : 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

2011-04-20 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101081115652
IPC(主分类) : G05B 19/425
专利号 : ZL2005101264402
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京圆合电子技术有限责任公司
变更后权利人 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
登记生效日 : 20110311

2009-01-28 ：

授权

2006-12-13 ：

实质审查的生效

2006-10-18 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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