光阻清洗剂
授权
摘要
本发明为一种包含乙酸丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)或乙酸丙二醇单甲基醚酯衍生化合物与环己酮(ANONE)或环己酮(ANONE)衍生化合物成分的光阻清洗剂；此光阻清洗剂具有下列特点：对人体具极低毒性，使用上具安全性，且无令人不愉快的气味；不会对环境造成污染，且其废液及废水容易处理；对光阻材料层具有良好的溶解度，适宜的挥发性，及优越的清洗能力及良好于不同光阻之间的兼容性；能于室温储存，成本低廉，且不需更换习用设备与生产条件，对人体具极低毒性，且其废液及废水容易处理。
基本信息
专利标题 ：
光阻清洗剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1987663A
申请号 ：
CN200510132392.8
公开（公告）日 ：
2007-06-27
申请日 ：
2005-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭光埌戴杏如
申请人 ：
新应材股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县龙潭乡三和村新和路455号
代理机构 ：
北京申翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
周春发
优先权 ：
CN200510132392.8
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2010-12-01 ：
授权
2007-08-22 ：
实质审查的生效
2007-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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