光阻处理系统
授权
摘要
一种光阻处理系统以处理一基板所承载的磁性光阻，其中该光阻处理系统包含一固持装置以及一磁性装置。该固持装置具有至少一结合区，用以配置该基板；该磁性装置置于距离该结合区的一预定位置上，且该磁性装置具有一磁吸方向，对应于该结合区，其中该磁性装置所产生的磁场对该磁性光阻具有一磁吸效应。
基本信息
专利标题 ：
光阻处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110858542A
申请号 ：
CN201811023793.3
公开（公告）日 ：
2020-03-03
申请日 ：
2018-09-04
授权号 ：
CN110858542B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
黄立民翁光祥
申请人 ：
创王光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹县302新竹市复兴1街251号9F-2
代理机构 ：
北京天驰君泰律师事务所
代理人 ：
孟锐
优先权 ：
CN201811023793.3
主分类号 ：
H01L21/027
IPC分类号 ：
H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/027
未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2021-01-19 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 21/027
登记生效日 : 20210107
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 台州创王光电有限公司
变更后权利人 : 台州观宇科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 318015 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心409室
变更后权利人 : 318015 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心410室
登记生效日 : 20210107
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 台州创王光电有限公司
变更后权利人 : 台州观宇科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 318015 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心409室
变更后权利人 : 318015 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心410室
2020-11-06 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 21/027
登记生效日 : 20201023
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 创王光电股份有限公司
变更后权利人 : 台州创王光电有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新竹县302新竹市复兴1街251号9F-2
变更后权利人 : 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心409室
登记生效日 : 20201023
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 创王光电股份有限公司
变更后权利人 : 台州创王光电有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新竹县302新竹市复兴1街251号9F-2
变更后权利人 : 浙江省台州市集聚区三甲街道甲南大道东段9号集聚区行政服务中心409室
2020-03-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/027
申请日 : 20180904
申请日 : 20180904
2020-03-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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