具有自对准硅化物和外基极的双极晶体管
专利权的终止
摘要

一种双极晶体管及制作晶体管的方法,其中晶体管包括基片(10)中的集电极(12)、位于集电极上的内基极(14)、与内基极相邻的外基极、位于内基极上的发射极(130)。从横切面看,外基极包括与内基极相邻的外基极注入区(82、172、192)。晶体管通过对基极上方的基片上发射极下部构图形成发射极基座(50)而形成。在不受发射极基座保护的区域内形成外基极。随后,形成发射极、相关联的分隔件(180)和硅化物区(220)。硅化物、外基极和发射极都彼此自对准。

基本信息
专利标题 :
具有自对准硅化物和外基极的双极晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101057328A
申请号 :
CN200580038284.2
公开(公告)日 :
2007-10-17
申请日 :
2005-11-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
玛瓦恩·H.·卡特弗朗索瓦·帕杰蒂
申请人 :
国际商业机器公司
申请人地址 :
美国纽约
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
秦晨
优先权 :
CN200580038284.2
主分类号 :
H01L27/082
IPC分类号 :
H01L27/082  H01L21/331  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/08
只包括有一种半导体组件的
H01L27/082
只包含双极型的组件
法律状态
2019-11-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 27/082
申请日 : 20051110
授权公告日 : 20091209
终止日期 : 20181110
2009-12-09 :
授权
2007-12-12 :
实质审查的生效
2007-10-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN101057328A.PDF
PDF下载
2、
CN100568505C.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332