气体供给部件和等离子体处理装置

专利权的终止

摘要

本发明提供一种气体供给部件和等离子体处理装置，能够不滞留气体地向腔室供给气体。作为气体供给部件的导入气体喷淋头(32)，在气体孔(35)与腔室相对部侧的外缘部上具有相对于气体孔(35)的中心轴有n次旋转对称性(n是2以上的自然数)的斜面(201)。斜面(201)相对于电极板空间相对面的倾角是20°。此外，配置气体孔(35)的直径为2mm，彼此的间隔为5mm。

基本信息

专利标题：

气体供给部件和等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1828825A

申请号：

CN200610007746.0

公开（公告）日：

2006-09-06

申请日：

2006-02-20

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

守屋刚村上贵宏

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200610007746.0

主分类号：

H01L21/00

IPC分类号：

H01L21/00 H01L21/67 H01L21/3065 C23F4/00 H05H1/00 H01J37/32