调整机构及其调整方法与晶片制造方法
专利权的终止
摘要

一种调整机构及其调整方法与晶片制造方法。调整机构用以调整一晶舟于一炉管内与炉管平行设置。炉管具有一容置槽及一开口,容置槽具有一第一对称中心线,晶舟具有一第二对称中心线。当晶舟经由开口插入容置槽时,容置槽的槽壁与晶舟的侧面之间具有一第一间隙区域。调整机构包括一调整工装用具及一调整组件。调整工装用具以可插拔的方式设置于开口处,并具有一宽部、一窄部及一贯孔。贯孔贯穿宽部及窄部,窄部用以塞住开口,使宽部暴露于开口外。当晶舟贯穿贯孔及开口而进入容置槽时,贯孔于窄部处的孔壁与晶舟的侧面之间具有一第二间隙区域,第二间隙区域小于第一间隙区域。调整组件用以根据第二间隙区域,调整第一对称中心线及第二对称中心线相互平行。

基本信息
专利标题 :
调整机构及其调整方法与晶片制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101021384A
申请号 :
CN200610054913.7
公开(公告)日 :
2007-08-22
申请日 :
2006-02-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郝鸿虎曾国邦
申请人 :
旺宏电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号
代理机构 :
上海专利商标事务所有限公司
代理人 :
任永武
优先权 :
CN200610054913.7
主分类号 :
F27B9/38
IPC分类号 :
F27B9/38  F27B9/39  H01L21/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B9/00
在其内机械移动炉料的炉,例如隧道式的
F27B9/30
零部件、附件或这类炉特有的装置
F27B9/38
装料装置的配置
法律状态
2022-01-28 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20060216
授权公告日 : 20091021
终止日期 : 20210216
2009-10-21 :
授权
2007-10-17 :
实质审查的生效
2007-08-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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