卷取式真空成膜装置
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摘要
本发明提供一种卷取式真空成膜装置，该卷取式真空成膜装置能够抑制绝缘性的原料薄膜的热变形，以高速成膜金属膜，谋求提高生产性，进而，能够提高薄膜的除电效果。其中，具有电子束照射器(21)、辅助辊(18)、直流偏压电源(22)、除电单元(23)，该电子束照射器(21)被配置在卷放辊(13)和蒸发源(16)之间，向原料薄膜(12)照射荷电粒子；该辅助辊(18)被配置在冷却用筒式辊(14)和卷取辊(15)之间，并与原料薄膜(12)的成膜面接触，对该原料薄膜(12)的行进进行引导；该直流偏压电源(22)对筒式辊(14)和辅助辊(18)之间施加直流电压；该除电单元(23)配置在筒式辊(14)和卷取辊(15)之间，对原料薄膜(12)进行除电，该除电单元(23)由一方的电极接地的直流二极放电型等离子发生源构成。
基本信息
专利标题 ：
卷取式真空成膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1969057A
申请号 ：
CN200680000343.1
公开（公告）日 ：
2007-05-23
申请日 ：
2006-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林信博横井伸多田勋中塚笃
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
何腾云
优先权 ：
CN200680000343.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2009-11-25 ：
授权
2007-07-18 ：
实质审查的生效
2007-05-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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