一种用于测定样品中有无靶分析物的相位差正交干涉测量方法，包括使用波长为λ、腰斑半径为ω的光束检测具有暴露给样品的反射表面的至少一部分基层。反射表面包括至少第一区域和第二区域。所述方法还包括在探测第一区域和第二区域时测量探测光束的反射衍射信号的一对正交角θ_q中的一个处的基本仅第一正交的光电检测器上的时间依赖强度。一种用于检测平面阵列上是否存在靶分子的相位差正交干涉测量的装置，包括用于产生探测光束的激光源、用于容纳平面阵列的平台以及在平台处以基本表面正交方式引导探测光束的第一光学组件。所述装置还包括具有第一侧面、第二侧面以及焦距的物镜。所述装置还包括用于测量第一正交和第二正交的分式光电检测器装置。