一种制备炭/炭构件的新型液相气化渗透沉积装置
专利权的终止
摘要
一种制备炭/炭构件的新型液相气化渗透沉积装置,其包括炉底上固定炉体,炉体上装配可开闭的炉盖,炉盖上安装了冷却回流系统,上述结构组成沉积装置的主体;感应线圈安装在炉体内,并连接感应加热电源系统,感应加热电源系统连接控制系统,石墨发热体和炭/炭构件预制体紧密连接,放置在感应线圈中央并固定在炉底上的支架上,在冷却回流系统上安装在线气体检测系统,液态前驱体供给和回流系统与过滤器和炉体相连。利用该装置制备的炭盘,其制备周期为25~30小时,提高了生产效率,降低了生产成本,而且装置能够在常压下运行,能量和前驱体利用率高,安全性能好。
基本信息
专利标题 :
一种制备炭/炭构件的新型液相气化渗透沉积装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720173117.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-13
授权号 :
CN201154987Y
授权日 :
2008-11-26
发明人 :
罗瑞盈章劲草吴小文宋国英
申请人 :
北京航空航天大学
申请人地址 :
100083北京市海淀区学院路37号北京航空航天大学理学院
代理机构 :
北京慧泉知识产权代理有限公司
代理人 :
王顺荣
优先权 :
CN200720173117.5
主分类号 :
C23C16/26
IPC分类号 :
C23C16/26 C23C16/448 C04B35/83
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2012-11-14 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101346920205
IPC(主分类) : C23C 16/26
专利号 : ZL2007201731175
申请日 : 20070913
授权公告日 : 20081126
终止日期 : 20110913
号牌文件序号 : 101346920205
IPC(主分类) : C23C 16/26
专利号 : ZL2007201731175
申请日 : 20070913
授权公告日 : 20081126
终止日期 : 20110913
2008-11-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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