一种气相沉积装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种气相沉积装置，包括进气总管、反应管、加热机构、支撑台和用于输送常温保护气的水相冷却进气机构；加热机构装设于支撑台上，反应管穿过加热机构设置；反应管的进气端与进气总管连通，反应管的出气端与一排气机构可拆卸连接，以使被催化样品能够从反应管的出气端置入反应管中；进气总管远离反应管的一端分别通过第一进气管、第二进气管和第三进气管与不同的气体输送机构连通，分别用于为反应管输送碳源气体、还原性气体和保护气；水相冷却进气机构与进气总管连通；水相冷却进气机构的出气端位于第三进气管与反应管间，水相冷却进气机构的进气端位于进气总管下方。本实用新型可提高碳纳米管的强度。
基本信息
专利标题 ：
一种气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021265099.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN212770940U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
康品春冯国进柴忻章俞之蒋淑恋郑鹏阮育娇周萍黄艺滨崔潼
申请人 ：
厦门市计量检定测试院
申请人地址 ：
福建省厦门市思明区湖滨南路170号四楼
代理机构 ：
深圳市博锐专利事务所
代理人 ：
任芹玉
优先权 ：
CN202021265099.5
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2022-06-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/26
申请日 : 20200701
授权公告日 : 20210323
终止日期 : 20210701
申请日 : 20200701
授权公告日 : 20210323
终止日期 : 20210701
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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