掩膜保护装置

专利权的终止

摘要

本实用新型的掩膜保护装置，是用于保持掩膜洁净，该掩膜保护装置包括一框体，此框体与掩膜接触面配置至少一凹槽，另外在框体内设置一贯穿孔，此贯穿孔贯穿凹槽与框体，贯穿孔的一端设有气阀开关，当此气阀开关与一泵连结时，凹槽的压力小于大气压力，则此框体会与掩膜紧密吸附，保持气密状态。本实用新型无需使用粘着剂，可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的污染微粒对掩膜造成的伤害。

基本信息

专利标题：

掩膜保护装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820008464.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-03-19

授权号：

CN201166780Y

授权日：

2008-12-17

发明人：

林添俊

申请人：

家登精密工业股份有限公司

申请人地址：

中国台湾台北县

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汤保平

优先权：

CN200820008464.7

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2017-05-03 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101717362888
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008200084647
申请日 : 20080319
授权公告日 : 20081217
终止日期 : 20160319

2008-12-17 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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