用于溅镀设备更换靶材的辅助装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种用于溅镀设备更换靶材的辅助装置,主要包括:一溅镀靶源,其主要包括一叠置的阴极本体及靶材;一旋转机构,其设于溅镀靶源的侧边中段位置,该旋转机构可驱动溅镀靶源旋转其角度至更换靶材过当位置,该旋转机构下方设一基架,该基架承载该旋转机构;一伸缩机构,该伸缩机构与基架通过连接元件连接,该伸缩机构制动基架以及旋转机构伸缩以间接连动溅镀靶源形成升降;一辅助伸缩机构,该辅助伸缩机构设于溅镀靶源的一侧边并对应该旋转机构的位置,辅助伸缩机构与伸缩机构对溅镀靶源二侧形成伸缩的平衡。本实用新型有益效果:节省人力搬运,利于更换靶材。

基本信息
专利标题 :
用于溅镀设备更换靶材的辅助装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820135884.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-10-10
授权号 :
CN201301335Y
授权日 :
2009-09-02
发明人 :
刘辛
申请人 :
苏州凡特真空溅镀科技有限公司
申请人地址 :
215000江苏省苏州市高新区浒墅关镇嵩山路128号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200820135884.1
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2013-12-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101547324895
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2008201358841
申请日 : 20081010
授权公告日 : 20090902
终止日期 : 20121010
2009-09-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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