无夹痕真空镀膜装置
专利权的终止
摘要

本实用新型是一种无夹痕真空镀膜装置,是以真空镀膜炉中设一转轮装置,其中以二环状轮盘,含设复数个金属网状管体,以容纳被镀物;当被镀物装入网状管体后,前后端以环状盖片套接后封闭,并在盖片前端的横杆上套入弹簧后穿过环状轮盘的透孔后,再由扣件穿入横杆的孔洞形成闩紧固定在环状轮盘,而在所述的炉床运作时,凭借转轴带动整体转轮旋转,并由网状管体内无固定、无遮敝效应,而使被镀物可以完全滚动,以各层面均可以匀称的承受离子风,进而可以使得被镀物表面完全镀膜,因其无夹子夹持等遮蔽效应,得以充分镀膜,而产生无夹痕的完美镀膜效果。

基本信息
专利标题 :
无夹痕真空镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820136939.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-18
授权号 :
CN201284369Y
授权日 :
2009-08-05
发明人 :
陈正全
申请人 :
普镀股份有限公司
申请人地址 :
台湾省苗栗县
代理机构 :
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 :
孙皓晨
优先权 :
CN200820136939.0
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2018-10-16 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20080918
授权公告日 : 20090805
2009-08-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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