真空蒸镀机加磁基片固定装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种真空蒸镀机中附加磁性块和固定待镀基片的固定装置,它是个至少一端开口的柱状匣体,其两侧壁上设有与真空蒸镀机相连接的凸块,匣体的下侧内壁设有搁放基片的平面,相对应处开设有露出基片蒸镀面的开孔;而匣体空腔可以是分隔成并排三个的,露出基片蒸镀面的开孔位于中间的空腔中;还有该匣体空腔左右两侧或匣体左右两侧空腔内也还可以设有磁性块,搁放基片的平面和露出基片蒸镀面的开孔被设置在两磁性块中间的。其结合了工艺需要和真空蒸镀机内腔的结构条件,采用水平设置加设磁场的形式,具有结构简单,使用可靠,本体和磁性块拆卸固定容易的特点。

基本信息
专利标题 :
真空蒸镀机加磁基片固定装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820163668.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-04
授权号 :
CN201278028Y
授权日 :
2009-07-22
发明人 :
彭保进应朝福万旭叶晶刘蕴涛
申请人 :
浙江师范大学
申请人地址 :
321004浙江省金华市迎宾大道688号
代理机构 :
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 :
程 皓
优先权 :
CN200820163668.8
主分类号 :
G02B1/10
IPC分类号 :
G02B1/10  C23C14/24  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2013-11-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101534131159
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL2008201636688
申请日 : 20080904
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20120904
2009-07-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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