干式蚀刻装置
授权
摘要
与材质无关地能够适用的干式蚀刻装置。本发明的一实施例公开的干式蚀刻装置包括：阳极部；阴极部，被施加随着时间而将极性为阳的电压和阴的电压双向交替的双向电压电源，并与所述阳极部分开配置；载置部，将加工对象物放置于所述阴极部的面向于所述阳极部的面；以及双向电压电源供给部，给所述阴极部施加所述双向电压电源。
基本信息
专利标题 ：
干式蚀刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109075107A
申请号 ：
CN201780024513.8
公开（公告）日 ：
2018-12-21
申请日 ：
2017-04-17
授权号 ：
CN109075107B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
崔相俊姜智声李炅珍
申请人 ：
库库创作股份有限公司
申请人地址 ：
韩国首尔市
代理机构 ：
北京冠和权律师事务所
代理人 ：
朱健
优先权 ：
CN201780024513.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/311 H01L21/3213
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2019-01-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20170417
申请日 : 20170417
2018-12-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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