用于显示装置中的包含氧化锆的混合高K介电材料膜堆叠
授权
摘要
本公开内容的实施方式总体提供形成可用作具有高介电常数以及高膜品质的电容器层或栅极绝缘层的混合膜堆叠的方法，以供显示应用。在一个实施方式中，一种薄膜晶体管结构包括形成在基板上的栅极电极、源极电极和漏极电极，和形成在基板上的绝缘层，其中所述绝缘层是具有介电层的混合膜堆叠，所述介电层包括设置在于所述栅极电极、所述源极电极和所述漏极电极上方或下方形成的界面层上的含锆材料。
基本信息
专利标题 ：
用于显示装置中的包含氧化锆的混合高K介电材料膜堆叠
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109075208A
申请号 ：
CN201780026072.5
公开（公告）日 ：
2018-12-21
申请日 ：
2017-07-05
授权号 ：
CN109075208B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
芮祥新赵莱伊恩·杰里·陈崔寿永宇佳·翟
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201780026072.5
主分类号 ：
H01L29/786
IPC分类号 ：
H01L29/786 H01L21/02
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-01-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/786
申请日 : 20170705
申请日 : 20170705
2018-12-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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