形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物

授权

摘要

本申请涉及形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物，形成薄膜的方法包括：制备包括形成发光层的发光层材料和形成邻近发光层的层的材料的混合物；以及通过将所述混合物加热至发光层材料的加工温度和附加材料的加工温度，在腔室内部将发光层和邻近发光层的层顺序地层压到衬底上。发光层材料和附加材料具有彼此不同的加工温度。发光层材料和附加材料从发光层材料和附加材料之中具有较低加工温度的一个到发光层材料和附加材料之中具有较高加工温度的一个被顺序地层压到衬底上。

基本信息

专利标题：

形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108281573A

申请号：

CN201810004171.X

公开（公告）日：

2018-07-13

申请日：

2018-01-03

授权号：

CN108281573B

授权日：

2022-05-03

发明人：

李在庸朴一秀金瑟雍沈治映

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司

代理人：

王达佐

优先权：

CN201810004171.X

主分类号：

H01L51/56

IPC分类号：

H01L51/56