光阻黏附性测试方法及光学检查机
授权
摘要

本揭示公开一种光阻黏附性测试方法,其包含:涂布一待测光阻于一沉积有金属层或绝缘层的玻璃基板上,再将所述待测光阻以一掩膜曝光显影形成一光阻图案;使用清洗液以一预定液压冲洗所述基板上的所述光阻图案;当检测经冲洗后的光阻图案有缺失时,记录所述预定液压;及当检测到经冲洗后的光阻图案无缺失时,增加所述预定液压并进行冲洗。本揭示所提供之光阻黏附性测试方法可全自动进行而能节省大量的人力和时间,且相比于百格测试法无人为划格用力不均的问题,并且测试结果更贴近实际上光阻材料对基板的黏附性。

基本信息
专利标题 :
光阻黏附性测试方法及光学检查机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110808215A
申请号 :
CN201910972210.X
公开(公告)日 :
2020-02-18
申请日 :
2019-10-14
授权号 :
CN110808215B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
葛先进
申请人 :
深圳市华星光电技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 :
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人 :
黄威
优先权 :
CN201910972210.X
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  G03F7/20  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-06-10 :
授权
2021-02-23 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 21/66
变更事项 : 申请人
变更前 : 深圳市华星光电技术有限公司
变更后 : TCL华星光电技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
变更后 : 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
2020-03-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20191014
2020-02-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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