量子点发光二极管及其制备方法
授权
摘要

本发明属于显示器件技术领域,具体涉及一种量子点发光二极管及其制备方法。该量子点发光二极管包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的量子点发光层,所述阳极与所述量子点发光层之间设置有空穴功能层,所述空穴功能层具有基于六方氮化硼材料的隧穿结结构。该空穴功能层具有基于六方氮化硼材料的隧穿结结构,该隧穿结结构可以形成内建电场,而六方氮化硼材料在隧穿结结构中能改善电流扩展效率,增加空穴的隧穿几率;这样,具有基于六方氮化硼材料的隧穿结结构的空穴功能层可以提高空穴迁移率,进而提高器件的空穴注入效率,最终提高了器件的发光性能。

基本信息
专利标题 :
量子点发光二极管及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113036043A
申请号 :
CN201911346925.0
公开(公告)日 :
2021-06-25
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN113036043B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
王劲杨一行
申请人 :
TCL集团股份有限公司
申请人地址 :
广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
方良
优先权 :
CN201911346925.0
主分类号 :
H01L51/50
IPC分类号 :
H01L51/50  H01L51/54  H01L51/56  
相关图片
法律状态
2022-05-27 :
授权
2022-05-13 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 51/50
变更事项 : 申请人
变更前 : TCL集团股份有限公司
变更后 : TCL科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
变更后 : 516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
2021-07-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/50
申请日 : 20191224
2021-06-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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