e形多电子束蒸镀装置及电子枪电路
授权
摘要
本发明提供一种e形多电子束蒸镀装置，该蒸镀设备包括永久磁铁N极、S极、X/Y扫描线圈、坩埚、冷却水及电子束发射器；采用磁偏转式电子束，使得电子束路径呈现e字型，偏转角为270度，其中电子束发射器的由灯丝阴极、阳极、偏转线圈等其他部件构成。从多电子束与旋转坩埚两方面应对电子枪故障问题。e形多电子束蒸镀设计大幅度提高了蒸镀效率和熔点，此外，为了提高蒸镀过程薄膜沉积速率精度和稳定性，本发明专利从热电子发射模块、高压电子加速模块和电子束偏转模块三个方面设计了新的电子枪电路。
基本信息
专利标题 ：
e形多电子束蒸镀装置及电子枪电路
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111088479A
申请号 ：
CN201911379047.2
公开（公告）日 ：
2020-05-01
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN111088479B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
鲁朝宇邓荣斌马兴民张丽娟段尧方江璨
申请人 ：
云南北方奥雷德光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市五华区教场东路31号
代理机构 ：
昆明祥和知识产权代理有限公司
代理人 ：
和琳
优先权 ：
CN201911379047.2
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 H01J3/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-05-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20191227
申请日 : 20191227
2020-05-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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