原子层沉积涂布设备
授权
摘要
本实用新型揭露一种原子层沉积涂布设备，主要包括有一固定框架、至少一气体供应模组、一移载模组、复数个加热抽气箱，以及一控制模组；藉此，本实用新型的原子层沉积涂布设备主要藉由移载模组与加热抽气箱的硬体设计，涂布作业可分区加热，有效提供原子层沉积的软性基板的良好定位控制与最佳化的环境温度管理，以利于软性基板的化学沉积反应的高温作业，确实维持基板特性不变质、提升传送基板的平稳性与精准度，以及提供良好区段式的反应区域加热作业等主要优势。
基本信息
专利标题 ：
原子层沉积涂布设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920595578.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-28
授权号 ：
CN210104074U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
廖世文
申请人 ：
位速科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园市杨梅区高青路26号
代理机构 ：
北京申翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄超
优先权 ：
CN201920595578.4
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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