等离子喷嘴

授权

摘要

本实用新型公开了一种等离子喷嘴，包括喷嘴本体，所述喷嘴本体的一端设有喷口，所述喷嘴本体靠近喷口的一端分别设有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔与第二空腔对应设置。在喷嘴本体上设置第一空腔和第二空腔，可以有效减轻喷嘴的重量，从而减轻喷枪的旋转载荷，降低设备故障率；设置第一空腔和第二空腔还可以增加散热面积，降低设备运行时的温度，避免灼伤低温材料；第一空腔和第二空腔还可以为从喷口喷出的等离子体提供存储空间，增大等离子光圈区域的等离子体的浓度和密度，增强等离子处理效果。

基本信息

专利标题：

等离子喷嘴

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920631228.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-30

授权号：

CN210042343U

授权日：

2020-02-07

发明人：

蔡卫

申请人：

深圳市诚峰智造有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼

代理机构：

深圳市博锐专利事务所

代理人：

张明

优先权：

CN201920631228.9

主分类号：

H05H1/26

IPC分类号：

H05H1/26