一种化学气相沉积用加热装置
授权
摘要
本实用新型属于化学气相沉积技术领域，具体公开了一种化学气相沉积用加热装置，包括：可升降的第一加热器；可升降的第二加热器，设置在所述第一加热器的正上方，与所述第一加热器呈上下相对设置；支撑架，固定设置在所述第一加热器上，且位于所述第一加热器和所述第二加热器之间；托盘，设置在所述支撑架远离所述第一加热器的一侧，用于承载基板；所述托盘为耐高温透明材料；所述第一加热器和所述第二加热器朝向所述托盘的一侧均固定设置有陶瓷板。本实用新型能够提高用于生产石墨烯的基板的受热均匀性和有效受热性。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积用加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920688397.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN210104075U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
孔伟成赵勇杰
申请人 ：
合肥本源量子计算科技有限责任公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市合肥市高新区创业产业园二期E2栋6层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920688397.6
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46 C23C16/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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