法拉第杯组件及离子注入装置
授权
摘要

本公开提供一种法拉第杯组件及离子注入装置,涉及半导体技术领域。该法拉第杯组件包括基座、法拉第杯、保护环和多个连接件。基座具有一设有安装槽的安装面,安装槽的底面设有至少一个安装孔;法拉第杯呈圆环状且设于安装槽的底面,法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔,杯腔具有朝向安装槽顶部的开放端,杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔;保护环设于安装面且遮蔽安装槽,保护环在开放端的投影覆盖杯腔,保护环设有多个周向分布的圆弧形的狭缝,狭缝和固定孔满足以下条件:其中,n为狭缝的数量,c为狭缝所处圆周的周长,L为狭缝的弧长,m为固定孔的数量。连接件可拆卸地连接于安装孔,且穿过与安装孔正对的固定孔。

基本信息
专利标题 :
法拉第杯组件及离子注入装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920848343.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-05
授权号 :
CN209822592U
授权日 :
2019-12-20
发明人 :
王东
申请人 :
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN201920848343.1
主分类号 :
H01J37/317
IPC分类号 :
H01J37/317  H01J37/244  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的,如离子注入
法律状态
2019-12-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332