本实用新型公开了一种硅片离子注入装置，包括机体，所述机体的内部设置有隔板，所述隔板的两端与机体的侧壁固定连接，所述隔板的下方机体的内底部设置有转动机构，所述转动机构的顶部固定连接有转盘，所述转盘的表面上对称设置有竖板。本实用新型中，利用电机带动转杆进行转动，转杆转动时可带动蜗杆进行转动，蜗杆与蜗轮相互啮合连接，可带动蜗轮上的竖杆进行转动，使得对转盘进行位置转动，不会因受到注入机距离的约束，使得在对硅片进行注入离子时量较多，利用电动推杆、真空泵和吸盘的配合下，在进行硅片注入离子时移动和固定都更加的稳定，能够连续进行注入，提高了注入效率，同时装置占地面积小，移动方便，具有一定的实用性。