一种真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜装置技术领域,且公开了一种真空镀膜装置,解决了目前立式真空镀膜装置无法有效的对金属管加工件进行固定,以及镀膜效率不高,且镀膜不均匀的问题,其包括镀膜箱,所述镀膜箱的两侧分别安装有蒸发源和真空泵,真空泵通过管道与镀膜箱的内部相连通,镀膜箱的表面开设有操作口,操作口的前侧活动安装有密封门,镀膜箱的顶部固定安装有第一电机,镀膜箱内腔的三个侧壁均安装有两个喷管,蒸发源通过管道与喷管相连接;本真空镀膜装置能够有效的对金属管加工件进行卡紧固定,保持其在镀膜时的稳定,同时本装置能够带动金属管加工件进行三百六十度绕圈转动,使其镀膜效率更高,以及镀膜更加的均匀。
基本信息
专利标题 :
一种真空镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920850939.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-06
授权号 :
CN210085573U
授权日 :
2020-02-18
发明人 :
程文吴东懋苏炜王志伟
申请人 :
肇庆市哈力化工有限公司
申请人地址 :
广东省肇庆市高要区莲塘镇金岗村大石马
代理机构 :
上海微策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤俊明
优先权 :
CN201920850939.5
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50 C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-02-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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