一种物理气相沉积样品加热装置
避免重复授权放弃专利权
摘要
本实用新型属于物理气相沉积镀氧化物薄膜技术领域,具体涉及一种物理气相沉积样品加热装置。其包括在密闭腔体内工作的加热元件和承载样品的载样机构,所述加热元件为碳化硅加热板。本实用新型提供的技术方案利用碳化硅加热元件,开发了一种小型价廉的氧化物镀膜用样品加热装置,可以在高氧气压环境中实现1000℃以上稳定工作,该加热装置体积小寿命长,变温迅速,温度稳定、能承受环境气压和温度的急剧变化、价格低廉,并能很方便地在真空下实施样品的更换。为氧化物薄膜的沉积生长提供了一个很好的加热手段。
基本信息
专利标题 :
一种物理气相沉积样品加热装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920937148.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-20
授权号 :
CN210367896U
授权日 :
2020-04-21
发明人 :
高炬赵蒙
申请人 :
高炬
申请人地址 :
中国香港半山区般咸道78号宁养台B座11楼F座
代理机构 :
苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张佩璇
优先权 :
CN201920937148.6
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54 C23C14/08
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2021-09-14 :
避免重复授权放弃专利权
避免重复授予专利权IPC(主分类) : C23C 14/54
申请日 : 20190620
授权公告日 : 20200421
放弃生效日 : 20210914
申请日 : 20190620
授权公告日 : 20200421
放弃生效日 : 20210914
2021-08-06 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/54
登记生效日 : 20210723
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 高炬
变更后权利人 : 枣庄学院
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国香港半山区般咸道78号宁养台B座11楼F座
变更后权利人 : 山东省枣庄市市中区北安路1号
登记生效日 : 20210723
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 高炬
变更后权利人 : 枣庄学院
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国香港半山区般咸道78号宁养台B座11楼F座
变更后权利人 : 山东省枣庄市市中区北安路1号
2020-04-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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