一种自清洁式磁控溅射靶材冷却系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种自清洁式磁控溅射靶材冷却系统，包括：水泵、混水管道、碎冰机、靶材和冷却塔，所述靶材中设置有冷却水腔体，所述靶材一端设置有与冷却水腔体连通的第一管接头，所述靶材另一端设置有与冷却水腔体连通的第二管接头，所述第一管接头与冷却塔的出水口之间设置有供水管，所述第二管接头与冷却塔的进水口之间设置有回水管，所述混水管道串联在供水管上，所述碎冰机设置在混水管道上方，所述碎冰机的底部设置有与混水管道垂直连通的落料管。通过上述方式，本实用新型所述的自清洁式磁控溅射靶材冷却系统，通过冰粒随冷却水依次进入供水管、冷却水腔体和回水管，对其内壁进行冲刷，清理掉污垢，提升了对靶材的冷却效果。
基本信息
专利标题 ：
一种自清洁式磁控溅射靶材冷却系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920939463.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-21
授权号 ：
CN210215525U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
朱杰
申请人 ：
张家港市和瑞创先智能光学有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市常阴沙现代农业示范园区常红路5号
代理机构 ：
苏州广正知识产权代理有限公司
代理人 ：
李猛
优先权 ：
CN201920939463.2
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 F25C5/04 F28G1/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
