一种湿法刻蚀设备

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摘要

本实用新型提供了一种湿法刻蚀设备，具有晶圆搬送装置以及用于对所述晶圆搬送装置所具有的夹持部进行清洗的清洗装置，所述清洗装置包括：清洗槽，用于盛装清洗液；以及清洗单元，用于清洗浸泡于所述清洗液内的所述夹持部，所述清洗单元具有与所述夹持部位置相对应的清洗部，所述清洗部能够对所述夹持部的表面进行摩擦，既提高了清洗的效率，又保证了清洗的洁净度。

基本信息

专利标题：

一种湿法刻蚀设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921178762.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-24

授权号：

CN210136860U

授权日：

2020-03-10

发明人：

郑涛陈章晏丁洋颜超仁

申请人：

德淮半导体有限公司

申请人地址：

江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

代理机构：

上海立群专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨楷

优先权：

CN201921178762.5

主分类号：

H01L21/677

IPC分类号：

H01L21/677 H01L21/67 B08B1/04 B08B3/08