一种带有前处理过程的卧式镀膜设备
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摘要
本实用新型公开了一种带有前处理过程的卧式镀膜设备，包括镀膜箱，所述镀膜箱的顶端设置有加料口，所述加料口的顶端安装有密封盖，所述密封盖的顶端安装有把手，所述基板固定座的两侧安装有固定夹，所述电热锅座的顶部安装有蒸发锅，所述镀膜箱的底端安装有底座，所述镀膜箱的一侧安装有储气罐，所述储气罐与镀膜箱之间安装有输气管，所述镀膜箱的另一侧安装有机箱，所述机箱的顶部安装有固定架，所述固定架的顶部安装有电机，所述电机的底端安装有砂轮。本实用新型的镀膜箱的一侧安装有固定架，在固定架上安装有电机，在电机的底端安装有砂轮，通过其可以对所需镀膜的基板进行打磨预处理，增大其功能性。
基本信息
专利标题 ：
一种带有前处理过程的卧式镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921190557.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210636062U
授权日 ：
2020-05-29
发明人 ：
黄国兴万志
申请人 ：
赫得纳米科技（黄石）有限公司
申请人地址 ：
湖北省黄石市经济技术开发区马垅畈路8号
代理机构 ：
武汉国越知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张熔舟
优先权 ：
CN201921190557.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/02 B24B7/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-05-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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