一种钟罩式气相化学沉积炉
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摘要
本实用新型公开了一种钟罩式气相化学沉积炉，包括基座、钟罩沉积炉本体、水平螺纹柱和插销，所述基座上设置有钟罩沉积炉本体，所述水平螺纹柱贯穿调节窗，且水平螺纹柱上安装有紧固螺母，并且水平螺纹柱固定在操作板上，同时操作板与齿轮筒相互连接，所述齿轮筒上固定有连接杆，且连接杆与限位板相互连接，并且限位板上开设有通孔，所述插销贯穿通孔，且插销的底端固定有定位板，并且定位板的底端与底槽相互连接，且底槽开设在基座上端面。该钟罩式气相化学沉积炉，采用新型的结构设计，使得本装置可以对钟罩沉积炉本体进行限位固定，令钟罩沉积炉本体不会轻易晃动移位，且能与基座紧密贴合接触，避免由于接触不紧密造成的气密性不足。
基本信息
专利标题 ：
一种钟罩式气相化学沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921269635.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-07
授权号 ：
CN210341056U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
王勇朱雪峰何飞
申请人 ：
成都四盛科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市龙泉驿区龙泉街道北泉路188号玺印上院48栋2单元2层1号
代理机构 ：
成都东唐智宏专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗言刚
优先权 ：
CN201921269635.6
主分类号 ：
C23C16/00
IPC分类号 ：
C23C16/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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