一种连续真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种连续真空镀膜装置，所述真空腔体的后端外表面固定连接有辅助抽气系统，所述真空腔体的一侧外表面固定连接有蒸发系统，所述真空腔体的另一侧设置有电力控制系统，所述电力控制系统的一侧固定连接有工作台，所述工作台的上端外表面固定连接有镀液中和反应制取装置，所述真空腔体的前端外表面固定连接有温度监测显示机构。本实用新型所述的一种连续真空镀膜装置，设有温度监测显示机构与镀液中和反应制取装置，能够实时监测镀膜环境的温度，根据温度来进行镀膜，增加镀膜的效果，提高工作效率，还可以使生产更加安全，中和反应有毒垃圾，改善环境，防止工作人员受伤出现严重伤害，带来更好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种连续真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921273611.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-08
授权号 ：
CN210287492U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
刘林兴
申请人 ：
苏盛纳米涂层科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇230省道藏书888号第七号标准厂房西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921273611.8
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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