本实用新型公开了一种真空镀膜机及其加热装置，加热装置包括真空腔室和若干个加热单元，所述真空腔室具有中空的内腔以及用于基片通过的入口和出口，所述入口和出口均与所述内腔相连通，且所述入口和出口处均设有启闭门；每一个所述的加热单元均包括至少三个相互独立的加热部，且所述三个加热部与所述基片的待加热位置相对应；所述若干个加热单元沿基片的传送方向依次设置在所述真空腔室内，且加热温度依次递减。该加热装置可实现对温度的补偿，使得在镀膜过程中，整体的温度始终保持在最佳状态，从而提高了薄膜沉积的均匀性。此外，通过温度依次递减的若干个加热单元使得基片在传送过程中以一定的速率退火生长，符合高效电池的要求。