一种具有加热装置的新型真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有加热装置的新型真空镀膜装置，其结构包括机体、储存瓶、罩体、发热丝、喷头、水泵、输水管、控制面板、电源线和均匀混料机构，该具有加热装置的新型真空镀膜装置通过设置了均匀混料机构，需要搅拌时上下来回拉动拉环，使齿条上下移动带动两侧齿轮来回转动，并经过蜗轮蜗杆传动后使上搅拌桨和下搅拌桨来回转动对储存瓶内部进行搅拌，解决了一段时间未使用时，储存瓶内部底端容易有多种材料沉淀，使下次使用时会喷出储存瓶上端的较稀的材料，浓度不均匀的问题，达到均匀搅拌的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种具有加热装置的新型真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921680647.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-09
授权号 ：
CN211036076U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
张云陈开云唐波
申请人 ：
赫得纳米科技重庆有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区青杠街道五显村
代理机构 ：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林慰敏
优先权 ：
CN201921680647.8
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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