一种掩膜板清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩膜板清洗装置，包括清洗箱、第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽，所述第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽内部均设有超声波发生器，且内部具有清洗液，所述第四清洗槽内部具有摆动清洗结构，所述清洗箱上具有夹取结构，本实用新型涉及掩膜板技术领域。本案提供一种利用清洗装置对掩膜板进行清洗,清洗为全自动清洁，通过多个不同深度的清洗池，完成最终的清洁。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜板清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921340927.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-19
授权号 ：
CN210666330U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
张明
申请人 ：
深圳市海博源光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区西乡街道桃源社区航城工业区智汇创新中心A栋331
代理机构 ：
深圳市世联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
汪琳琳
优先权 ：
CN201921340927.4
主分类号 ：
G03F1/82
IPC分类号 ：
G03F1/82
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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