一种掩膜板清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩膜板清洗装置，括可开闭清洗槽、药剂循环蒸馏部、掩膜板固定治具以及治具吊装推进机构，所述药剂循环蒸馏部通过药剂供应管道向可开闭清洗槽内的喷淋管供应对可开闭清洗槽上装载的掩膜板进行清洗洁净的药剂，所述掩膜板固定治具用于装载固定掩膜板，且掩膜板固定治具装载于旋转部上，所述治具吊装推进机构包括给进机构以及吊装机构，所述吊装机构将装载掩膜板后的掩膜板固定治具投入或者提拉出可开闭清洗槽，所述给进机构推进吊装机构平移，将掩膜板固定治具对应投入有不同种类药剂的可开闭清洗槽，可实现洁净药剂与非洁净药剂的不同比例混合对掩膜板清洗，且旋转部可实现掩膜板180°换向清洗，清洗效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜板清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122742551.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-10
授权号 ：
CN216434663U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
张麒麟白阳阳
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州君诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
戴雨君
优先权 ：
CN202122742551.3
主分类号 ：
G03F1/82
IPC分类号 ：
G03F1/82
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
