一种掩膜版清洗装置

专利权的终止

摘要

本实用新型适用于清洗装置技术领域，提供了一种掩膜版清洗装置，包括一清洗槽，所述清洗槽中设有一梯形架和与所述梯形架一端连接的一平台，所述掩膜版两端分别以线接触的方式置于所述梯形架的斜面和所述平台上。在本实用新型中，掩膜版两端分别以线接触的方式置于梯形架的斜面和平台上，与传统浸泡式的面接触方式相比，本实用新型可以避免因掩膜版的背面摩擦而导致的划痕缺陷；另外，去离子水通过溢流槽后在梯形架的斜面上形成一均匀水幕，使去离子水以漫流方式均匀冲洗掩膜版表面，掩膜版表面的水渍以及脏印即可得到有效的清洗。

基本信息

专利标题：

一种掩膜版清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820147157.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-09-10

授权号：

CN201235357Y

授权日：

2009-05-13

发明人：

熊启龙

申请人：

清溢精密光电(深圳)有限公司

申请人地址：

518057广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号

代理机构：

深圳中一专利商标事务所

代理人：

张全文

优先权：

CN200820147157.7

主分类号：

B08B3/04

IPC分类号：

B08B3/04