晶片光处理装置和烧结炉
授权
摘要
本申请提供一种晶片光处理装置和烧结炉，该晶片光处理装置包括：晶片支撑装置、上部光源装置和下部光源装置。所述晶片支撑装置具有支撑件，所述支撑件被配置为能够将所述晶片支撑在所述上表面的上方；所述上部光源装置设置在所述晶片支撑装置的上方，并被配置为提供朝向所述支撑件的上表面照射的光源；所述下部光源装置设置在所述晶片支撑装置的下方，并被配置为提供朝向所述支撑件的下表面照射的光源。本申请提供的晶片光处理装置能够高效地处理晶片。
基本信息
专利标题 ：
晶片光处理装置和烧结炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921357209.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-20
授权号 ：
CN210379090U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
苏文华
申请人 ：
伊利诺斯工具制品有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
上海脱颖律师事务所
代理人 ：
脱颖
优先权 ：
CN201921357209.8
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 H01L31/0224 H01L31/04 H01L21/02
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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