气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备，所述气液两相供给回收装置设置于所述浸没式光刻设备的主基板上以对所述浸没式光刻设备进行浸没液的供给和回收，其包括隔热外壳及设置于所述隔热外壳内的分流块主体，所述隔热外壳的侧壁中设置有温控流体通道，所述温控流体通道呈螺旋状环绕所述分流块主体，并且，所述温控流体通道可以流通与所述主基板温度相等的流体，通过所述温控流体通道中的流体与所述分流块主体发生热交换的方式来保证主基板的温度不产生变化，降低了分流块主体的温度对主基板的影响，减小了主基板的热形变。
基本信息
专利标题 ：
气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921424914.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-28
授权号 ：
CN210294802U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
朱科峰赵丹平刘剑郭孔斌张楠
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201921424914.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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