一种浸没式光刻装置
授权
摘要

本实用新型提供了一种浸没式光刻装置,属于半导体制品领域。该浸没式光刻装置包括透镜、支撑组件、卡接组件和定位组件。所述卡接组件包括底座和滑杆,所述滑杆的一端固定有齿条,所述齿条与所述齿轮啮合,所述基板台中部开设有通槽,所述通槽侧壁开设有卡槽,所述滑杆的一端与所述卡槽卡接;通过设置的基板台便于底座的固定,通过设置的滑杆与卡槽卡接,通过旋转转轴带动齿条移动,使得齿条带动滑杆移动,使得滑杆的一端与卡槽插接,便于底座卡接固定,通过增设的吸盘,按压橡胶气囊,使得吸盘端部产生负压,便于吸附晶片,对晶片进行吸附定位,使得加工过程中晶片稳固,便于晶片的取放,操作方便快捷。

基本信息
专利标题 :
一种浸没式光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922243639.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-13
授权号 :
CN211086918U
授权日 :
2020-07-24
发明人 :
华平壤姜城
申请人 :
天津通软信息技术有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区经济技术开发区洞庭路131号德福斯新天地科技大厦A505
代理机构 :
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡岩岩
优先权 :
CN201922243639.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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