组合光罩
授权
摘要
本实用新型提供了一种组合光罩，所述组合光罩包括至少两个光罩，每个光罩上具有图形，各所述光罩重叠时，各所述光罩上的图形相互间隔，利用所述组合光罩曝光在MCT层上只旋涂一次光刻胶的情况下实现多个光罩的顺序曝光，可以在MCT层上得到理想的孔洞和线条，提高了MCT层上的孔洞和线条的特征尺寸的精度，同时降低了OPC模型建模的难度。
基本信息
专利标题 ：
组合光罩
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921426031.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-29
授权号 ：
CN210776174U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
童立峰杨要华
申请人 ：
上海华力微电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区良腾路6号
代理机构 ：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹廷廷
优先权 ：
CN201921426031.8
主分类号 ：
G03F1/36
IPC分类号 ：
G03F1/36
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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