组合光罩
授权
摘要

本实用新型提供了一种组合光罩,所述组合光罩包括至少两个光罩,每个光罩上具有图形,各所述光罩重叠时,各所述光罩上的图形相互间隔,利用所述组合光罩曝光在MCT层上只旋涂一次光刻胶的情况下实现多个光罩的顺序曝光,可以在MCT层上得到理想的孔洞和线条,提高了MCT层上的孔洞和线条的特征尺寸的精度,同时降低了OPC模型建模的难度。

基本信息
专利标题 :
组合光罩
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921426031.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-29
授权号 :
CN210776174U
授权日 :
2020-06-16
发明人 :
童立峰杨要华
申请人 :
上海华力微电子有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区良腾路6号
代理机构 :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹廷廷
优先权 :
CN201921426031.8
主分类号 :
G03F1/36
IPC分类号 :
G03F1/36  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2020-06-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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