一种用于薄柔薄膜基底的固定平台
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摘要
一种用于薄柔薄膜基底的固定平台，包括有基台，所述基台的表面设置有用于支撑薄柔基底的台面，所述台面区间内设置有用于薄柔基底涂布的涂布机，所述基台包括有涂布区以及位于所述涂布区两侧的固定区，所述固定区设置有若干个真空吸附孔，所述真空吸附孔连接有真空发生器，所述涂布机在所述涂布区内对薄柔基底进行涂布；薄柔基底平铺在台面上，真空吸附孔通过真空发生器产生的负压将位于固定区内的薄柔基底固定在固定区内，固定区设置在涂布区的两侧，从而使得涂布区内的薄柔基底平铺且薄柔基底的表面不会出现凹坑，从而保证对涂布区内的薄柔基底进行高精涂布过程中涂布厚度的均一性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于薄柔薄膜基底的固定平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921599421.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN210995071U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
冯宗宝欧阳俊波张海銮程园园崔阳阳郑永强韩长峰钱磊张德龙
申请人 ：
苏州威格尔纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区平胜路18号
代理机构 ：
苏州华博知识产权代理有限公司
代理人 ：
孟宏伟
优先权 ：
CN201921599421.5
主分类号 ：
B05C13/02
IPC分类号 ：
B05C13/02 B05D3/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C13/00
操纵或夹持工件的方法，如对单个物体
B05C13/02
对特殊物品
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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