一种图形化复合衬底和LED外延片
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型实施例公开了一种图形化复合衬底和LED外延片。该图形化复合衬底,包括:衬底基板,所述衬底基板上表面形成有阵列排布的多个凹洞,且所述凹洞的开口尺寸小于阵列排布的所述多个凹洞的周期;异质微结构,所述异质微结构填充于所述凹洞中,所述异质微结构由异质材料制成,所述异质材料的折射率低于或高于所述衬底基板的折射率。本实用新型实施例解决了现有图形化复合衬底的C面存在缺陷且出光效率率较低的问题,可以保证图形化复合衬底C面的质量,降低外延中位错密度;同时还可以改善衬底基板和外延层界面之间的折射率差,增加光出射的几率,保证光的提取效率。

基本信息
专利标题 :
一种图形化复合衬底和LED外延片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921684854.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-08
授权号 :
CN211125684U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
陆前军张剑桥康凯肖桂明王子荣吴伟曾广艺
申请人 :
东莞市中图半导体科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
孟金喆
优先权 :
CN201921684854.0
主分类号 :
H01L33/20
IPC分类号 :
H01L33/20  H01L33/00  
法律状态
2021-01-15 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 33/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东莞市中图半导体科技有限公司
变更后 : 广东中图半导体科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
变更后 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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